名稱：釔（Y） /N7.|XI.  
三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率約為1.8.用作鋁保護(hù)膜其極受歡迎,特別相對于800—12000nm區(qū)域高入射角而言,可用作眼鏡保護(hù)膜,且24小時暴露于濕氣中.一般為顆粒狀和片狀. 8 -YC#&  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 蒸氣成分 1b,MJ~g$  
250--8000 1．79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護(hù)膜 '1"vwXJ"  
Cs'<;|r(  
名稱：二氧化鈰（CeO2） Oh5aJ)"D  
使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā),在200℃的基板上蒸著二氧化鈰,得到一個約為2.2的折射率,在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化,在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45,在波長短過400nm時有吸收,傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性,用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般為顆粒狀,還可用一增透膜和濾光片等. +}x\|O  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 '0<9+A#  
400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜， 多 .~,=?aq^  
Sb.%B^O  
名稱：氧化鎂(MgO) yrG=2{I  
必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華,堅硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性,250nm時n=1.86, 190nm時n=2.06.    166nm時K值為0.1, n=2.65.可用作紫外線薄膜材料.MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過性良好,但膜層被限制在60層以內(nèi)(由于膜應(yīng)力)500nm時環(huán)境基板上得到n=1.70.由于大氣CO2的干擾,MGO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層,可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2). 9>r@wK'Pn  
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名稱：硫化鋅(ZnS) $1Qcz,4B|  
折射率為2.35,  400—13000nm的透光范圍,具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性, ZnS在高溫蒸著時極易升華,這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層,因此需要徹底清爐,并且在最高溫度下烘干,花數(shù)小時才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線(UV)對ZNS有較大的影響,由于紫外線在大氣中導(dǎo)致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅(ZNO). Pos(`ys;  
     bKt4  
透光范圍(nm) 折射率(N)550nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 方式 gX]ewbPDQ  
400--14000 2.35 1000--1100 電子槍,鉭鉬舟 防反膜， 升華 8EY]<#PN  
應(yīng)有:分光膜,冷光膜,裝飾膜,濾光片,高反膜,紅外膜. ."Q}2  
c0Yc~&RF  
名稱:二氧化鈦(TIO2) |3G;Rh9w,  
TIO2由于它的高折射率和相對堅固性,人們喜歡把這種高折射率材料用于可見光和近紅外線區(qū)域,但是它本身又難以得到一個穩(wěn)定的結(jié)果.TIO2, TI2O3. TIO, TI ,這些原材料氧—鈦原子的模擬比率分別為:2.0, 1.67, 1.5, 1.0, 0. 后發(fā)現(xiàn)比率為1.67的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個重復(fù)性折射率為2.21的堅固的膜層,比率為2的材料第一層產(chǎn)生一個大約2.06的折射率,后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無吸收性,幾乎每一個TIO2蒸著遵循一個原則:在可使用的光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的吸收性,這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TIO2需要使用IAD助鍍,氧氣輸入口在擋板下面. q0{