名稱：釔（Y） yUX<W'-Hev  
三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率約為1.8.用作鋁保護(hù)膜其極受歡迎,特別相對于800—12000nm區(qū)域高入射角而言,可用作眼鏡保護(hù)膜,且24小時暴露于濕氣中.一般為顆粒狀和片狀. wF)g@cw  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 蒸氣成分 |D~#9  
250--8000 1．79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護(hù)膜 zC WN,K`  
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名稱：二氧化鈰（CeO2） #RWmP$+#=  
使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā),在200℃的基板上蒸著二氧化鈰,得到一個約為2.2的折射率,在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化,在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45,在波長短過400nm時有吸收,傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性,用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般為顆粒狀,還可用一增透膜和濾光片等. MNH-SQB