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    [討論]離子源問題的討論，歡迎達人進入 [復制鏈接]

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    離線lsnanjing
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2008-08-12
    眾所周知 ,在薄膜沉積的同時 ,輔助以具有一定能量的定向離子束的轟擊 ,可以大大地改善薄膜的性能。 b3h3$kIYN  
    它不僅可以顯著增強膜基與膜層間的結(jié)合。而且可以起到增加存儲密度 ,消除柱狀晶 ,提高膜的致密度的作用。 ~36)3W[4  
    我在這里想要和大家討論的是：離子源可以改變膜層的折射率，那么可以不同的能量可以改變它的厚度嗎？？？？
     
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    離線syw1984
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2008-08-23
    這好像不行啊，要厚就是整體的都厚了
    離線ken_jinyan1
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2013-06-07
    薄膜的折射率變了，再用TFC設計不就不準了嗎
    離線yangyangyang
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2014-06-25
    不可以改變厚度
    離線gaofei5588
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2017-11-24
    離子源和晶控或光控是單獨體，改變離子源beam，會改變折射率，厚度肯定會發(fā)生變化。 ?}n\&|+