CDNY-03AM 光學(xué)膜層厚度測量控制儀 -b<+Ra
 
sTONkd  
CDNY-03AM是專為光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)的新一代光學(xué)膜層厚度測量控制儀。本儀器由于采用窄帶頻率技術(shù)，因而對信號諧波和直流漂移具有極強(qiáng)的抑制能力。 G9TUU.T  
主要性能指標(biāo)及技術(shù)指標(biāo)  lwlR"Z  
j yE+?4w;