美國NANOVEA納米劃痕測試儀 Z9MT, "  
飾  美國NANOVEA公司是一家全球公認的劃痕測試儀的領航者，生產(chǎn)的劃痕測試儀是目前國際上用在科學研究和工業(yè)領域最先進的設備之一，該公司在光學設計、精密機械和科學軟件算法方面，擁有長期不斷發(fā)展的專利技術，由于這些專門技術的應用，NANOVEA為生產(chǎn)和質(zhì)量控制的研究和發(fā)展提供精密準確的全方位解決方案。 Ps@a@d"83  
納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結(jié)合強度、涂層失效形式，薄膜的抗劃痕強度與基底的變形尺度等，主要應用在： 2nL[P#r  
1.    半導體技術(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads)； -hx' T6G%  
2.    存儲材料(磁盤的保護層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護層)； =@F1J7  
3.    光學組件(接觸鏡頭、光纖、光學刮擦保護層)； iB
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4.    金屬蒸鍍層； &jh'B