最快優(yōu)化最好薄膜設(shè)計軟件OptiLayer《用戶手冊》 Nxt/R%(  
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來自俄羅斯的最強大光學(xué)薄膜設(shè)計軟件OptiLayer，是鍍膜工藝專家、數(shù)學(xué)家和軟件高手的精華之作，采用獨特的針式算法，計算速度超快，設(shè)計能力超強，迄今，還沒有一種薄膜OptiLayer不能設(shè)計。目前國外非常流行！ ^NnZYr.  
自1993年起，隸屬美國光學(xué)學(xué)會（OSA）的OIC（Optical Interface Coating）組織，定期舉辦光學(xué)薄膜設(shè)計大賽（OIC contest），所有優(yōu)勝者的共同特點是都使用了基于針式優(yōu)化設(shè)計理論的OptiLayer軟件！ 9f"6Jw@F  
OptiLayer軟件包的三個模塊 '*~{1gG `  
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一、OptiLayer 模塊 7NXT.E~2  
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OptiLayer 模塊的功能同大多數(shù)軟件差不多，不同處在于：1.能解決其它軟件不能再優(yōu)化的問題；2.運算速度快，比同時期的同類軟件快數(shù)百倍。其具體原因可參考針式算法專題。 <N`rcKE%~P  
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二、OptiChar模塊 i&bttSRNV  
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OptiChar模塊主要通過鍍膜材料實測光學(xué)特性參數(shù)(某波段范圍內(nèi)的反射率和透過率曲線)給出一評估曲線，再通過在某一基底下，考察給定薄膜理論中一些因素(厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)時，擬合出在當(dāng)前考察因素下，最接近鍍膜材料實測出的光譜特性評估曲線的層材料光譜特性曲線，進而給出此時的層材料模型(包含層材料的厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)。擬合得越好則給出的層材料模型越接近當(dāng)前鍍膜條件下的實際情況。 P4N{lQ.>  
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且在考察和不考察某一因素時，如果擬合狀況無多大變化，則說明當(dāng)前考察的光學(xué)特性(反射或透過)對該因素不敏感。即該因素對當(dāng)前考察的光學(xué)特性無多大影響。因而再利用該層材料作設(shè)計且為當(dāng)前考察的光學(xué)特性時，可以忽略該因素的影響而不去考慮它。 ~I^]O \
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如上表即薄膜理論中最重要的一些因素：不均一性、消光系數(shù)和表面粗糙度對某一層材料實際測得的光譜特性(反射和透過)的影響程度。由上表我們可知在利用該層材料模型做設(shè)計時，若設(shè)計只考慮反射時，則該三因素中只需考慮不均一性；同理若設(shè)計只考慮透過時，則該三因素中需考慮不均一性和消光系數(shù)。 a\MU5%}\  
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三、OptiRE模塊 MBwp{ET!p  
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OptiRE這一模塊為工程反演，其主要目的為向生產(chǎn)過程提供一個回饋。 8vP d~te  
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OptiRE中采用一差異函數(shù)比較設(shè)計模型光譜特性和生產(chǎn)后薄膜實驗測得的光譜特性， OptiRE的工程反演運算法則是基于使該差異函數(shù)值最小。（OptiLay模塊的優(yōu)化設(shè)計則是優(yōu)化比較理論和目標(biāo)光譜特性的評價函數(shù)值） 0<Pe~i_=  
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為提高生產(chǎn)質(zhì)量，我們需要消除或者使誤差最小。在OptiRE中我們考察兩類生產(chǎn)誤差：系統(tǒng)誤差和隨機誤差。 5GRN1Aov<  
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系統(tǒng)誤差是那些在下一次沉積或加工時還會發(fā)生的誤差。系統(tǒng)誤差通過工程反演知道并能通過采用具有更精確刻度的監(jiān)測裝置；而由工程反演得出的隨機誤差信息能被用來研究生產(chǎn)誤差產(chǎn)生的原因。 Y}WO`+Vf5  
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OptiRE中還考察折射率修正、系統(tǒng)不均一性等生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的一些實際問題。注意：應(yīng)優(yōu)先考察系統(tǒng)誤差。 +V7p?iEY  
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四、小結(jié) 'x18F#g  

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OptiLayer:考察由設(shè)計到目標(biāo)的評價函數(shù)，通過優(yōu)化達到設(shè)計目標(biāo)，并進行預(yù)生產(chǎn)誤差分析； fcBSs\\C~  

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OptiChar:考察在各種薄膜理論中的重要因素下的層材料光譜特性和其實測光譜特性的差異函數(shù)， 得出較好的切合實際的層材料模型并得出各因素對當(dāng)前設(shè)計的影響，指出用該層材料設(shè)計時考察需哪些因素。 &#)3