1. 背景知識 |^F$Ta  
光學(xué)薄膜泛指在器件表面用物理化學(xué)等方法沉積，利用光的干涉現(xiàn)象以實現(xiàn)增透、高反射、濾光、分光等光學(xué)現(xiàn)象。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高太陽能電池的效率和穩(wěn)定性。 L`rrT   
2. 設(shè)備能力 N1vA>(2A  
OTFC-900型自動高精度光學(xué)薄膜鍍膜機是一種通用型的高檔光學(xué)鍍膜設(shè)備，適用從于從紫外到紅外各種光學(xué)玻璃和晶體上鍍制減反射膜,高反射膜,分光膜和濾光膜及其它多層光學(xué)薄膜。 .=hVto[QC  
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1） 真空室尺寸：直徑900毫米，高度約1300毫米 QNXS.!\P  
2） 排氣性能 /&c>*4)  
粗抽真空：從大氣壓到50Pa真空，8分鐘以內(nèi) X>]<rEh  
極限真空：低于5.0E-5Pa　 %y)hYLOJ  
恢復(fù)真空：15分鐘之內(nèi)達到8.0E-4Pa 1h)K3cC  
漏氣速率：低于5.0E-3Pa・L/sec hOdU%  
3） 基板加熱特性 UCTc$3