1. 背景知識 d'l$$%zJ  
光學(xué)薄膜泛指在器件表面用物理化學(xué)等方法沉積，利用光的干涉現(xiàn)象以實(shí)現(xiàn)增透、高反射、濾光、分光等光學(xué)現(xiàn)象。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減�。徊捎酶叻瓷浔鹊姆瓷溏R可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高太陽能電池的效率和穩(wěn)定性。 JeY'8B  
2. 設(shè)備能力 o0pT6N)  
OTFC-900型自動(dòng)高精度光學(xué)薄膜鍍膜機(jī)是一種通用型的高檔光學(xué)鍍膜設(shè)備，適用從于從紫外到紅外各種光學(xué)玻璃和晶體上鍍制減反射膜,高反射膜,分光膜和濾光膜及其它多層光學(xué)薄膜。 AaN"7.Z/  
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1） 真空室尺寸：直徑900毫米，高度約1300毫米 NNa1EXZ[  
2） 排氣性能 fj4^VXD  
粗抽真空：從大氣壓到50Pa真空，8分鐘以內(nèi) #^&jW  
極限真空：低于5.0E-5Pa　 M0-,M/]l  
恢復(fù)真空：15分鐘之內(nèi)達(dá)到8.0E-4Pa =f:(r'm?r.  
漏氣速率：低于5.0E-3Pa・L/sec Gqyue7;0,  
3） 基板加熱特性 ;t]|15]u  
最大設(shè)定溫度: 350℃ D22Lu;E  
加熱40分鐘以內(nèi)，能到達(dá)300℃ {6x