Ⅲ 族氮化物
半導(dǎo)體材料廣泛用于紫、藍、綠和白光發(fā)光二極管,高密度
光學(xué)存儲用的紫光
激光器,紫外光探測器,以及高功率高頻
電子器件。然而由于缺乏合適的襯底,目前高質(zhì)量的
GaN膜通常都生長在藍寶石或SiC襯底上,但是這兩種襯底部都比較昂貴,尤其是碳化硅,而且尺寸都比較小。藍寶石還有硬度極高和不導(dǎo)電的缺點。為克服上述缺點,人們在用硅作襯底生長GaN方面一直不斷地進行探索。由于GaN材料的電熒光對晶體缺陷并不敏感,因此人們預(yù)期在Si襯底上異質(zhì)外延生長Ⅲ族氮化物發(fā)光器件在降低成本方面具有明顯的技術(shù)優(yōu)勢。
NTs7KSgZ U.0kR/>Z= 人們還期待使用Si襯底今后還有可能將光發(fā)射器與硅電子學(xué)集成起來,將加速和擴大氮化鎵在光電子和微電子方面的應(yīng)用。
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