介紹了以光時(shí)域
反射儀（OTDR）為代表的
光學(xué)鏈路連續(xù)分布
參數(shù)的的反射式
測(cè)量技術(shù)。在闡明OTDR基本測(cè)量
原理和實(shí)現(xiàn)方式的基礎(chǔ)上，著重討論了時(shí)域相關(guān)測(cè)量，頻域測(cè)量和干涉測(cè)量技術(shù)各自的特點(diǎn)及對(duì)測(cè)量精度的改進(jìn)。
9U {y1} !" JfOu 一、概述
4EXB;[ ] n4R2^gXAw 光學(xué)分布探測(cè)是一種適用于
光纖等連續(xù)光學(xué)鏈路的特征參數(shù)測(cè)量的技術(shù)。反射式分布探測(cè)是基于測(cè)量光背向散射信號(hào)，由光傳輸特性的變化來(lái)探測(cè)、定位和測(cè)量光纖鏈路上因熔接、連接器、彎曲等造成的光學(xué)性能改變。光時(shí)域反射儀OTDR是這種技術(shù)的典型應(yīng)用。OTDR可以測(cè)量整個(gè)光纖鏈路的衰減并提供與長(zhǎng)度有關(guān)的衰減細(xì)節(jié),測(cè)量具有非破壞性、測(cè)量過(guò)程快速方便、結(jié)果準(zhǔn)確直觀的特點(diǎn)。因此在生產(chǎn)、研究以及通信等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。為了提高測(cè)量性能，在OTDR的基礎(chǔ)上提出了時(shí)域相關(guān)測(cè)量，頻域測(cè)量和干涉測(cè)量等改進(jìn)的測(cè)量技術(shù)。
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