激光掃描磁控濺射Fe/Si膜直接形成α-FeSi2摘要：用直流磁控濺射方法分別在室溫及不同溫度的 Si (100)襯底上沉積 Fe 膜 ,隨后采用脈沖激光掃描進(jìn)行退火 ,X 射線衍射(XRD) 和掃描電子顯微鏡(SEM)表征了激光掃描對(duì)薄膜結(jié)晶性質(zhì)和表面顯微結(jié)構(gòu)的影響。測量結(jié)果證實(shí)直接形成了 Fe2Si 化合物系的富硅高溫相α 2FeSi2 ,室溫沉積樣品的結(jié)晶性質(zhì)隨激光能量密度的增加而提高;反應(yīng)沉積樣品的結(jié)晶性質(zhì)隨襯底溫度升高而提高。 eI[z%j[Y*  
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關(guān)鍵詞：磁控濺射；激光掃描退火；結(jié)晶性質(zhì)；顯微結(jié)構(gòu)