光譜學是測量紫外、可見、近紅外和紅外波段光強度的一種技術。光譜測量被廣泛應用于多種領域，如顏色測量、化學成份的濃度檢測或電磁輻射分析等。光譜儀器一般都包括入射狹縫、準直鏡、色散元件（光柵或棱鏡）、聚焦光學系統(tǒng)和探測器。而在單色儀中通常還包括出射狹縫，讓整個光譜中一個很窄的部分照射到單象元探測器上。單色儀中的入射和出射狹縫往往位置固定而寬度可調，可以通過旋轉光柵來對整個光譜進行掃描。 X1{[}!  
　  在九十年代，微電子領域中的多象元光學探測器迅猛發(fā)展，如 CCD 陣列、光電二極管（ PDA ）陣列等，使生產低成本掃描儀和 CCD 相機成為可能。超微光學的光譜儀使用的是CCD探測器，可以對整個光譜進行快速掃描而不必移動光柵。由于光通信技術對光纖的需求大大增長，從而開發(fā)了低損耗的石英光纖。該光纖同樣可以用于測量光纖，把被測樣品產生的信號光傳導到光譜儀的光學平臺中。由于光纖的耦合非常容易，所以可以很方便地搭建起由光源、采樣附件和光纖光譜儀組成的模塊化測量系統(tǒng)。 5{e,L>H<  
　  光纖光譜儀的優(yōu)點在于系統(tǒng)的模塊化和靈活性。超微光學的微小型光纖光譜儀的測量速度非�？�，使得它可以用于在線分析。而且由于它選用低成本的通用探測器，所以光譜儀的成本也大大降低，從而大大擴展了它的應用領域。 NEt1[2X%  
超微光學生產的MS-2100工業(yè)級光纖光譜儀是工業(yè)級別專用的光纖光譜儀，其可測量近紫外、可見光、近紅外等光譜，采用世界最先進的光學技術，綜合了多項創(chuàng)新和技術專利、MS-2100的測量范圍可從300nm～1000nm之間選擇，光譜分辨率＜1.0nm，適用于工業(yè)上的應用，具有性價比高、操作簡易、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，可為客戶提供OEM的產品定制選擇，是目前市面上最新款、最精準、最高性價比的工業(yè)級光纖光譜儀。 Fs_]RfG  
MS-2100具有小型化、模塊化、操作簡易、性能穩(wěn)定等特點，從科研領域的應用到生產在線設備安全檢測等的工業(yè)應用，都能讓客戶更快速有效的整合成一個新的光譜測量產品。目前該產品已經廣泛用于工業(yè)和科研等領域，諸如LED產業(yè)、電子產業(yè)、生化檢測、環(huán)境科技、食品安全、化學材料、醫(yī)療藥物檢測等方面。 w;UqEC V  
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規(guī)格型號： 'H8(=9O1d  
   MS-2100                         MS-2100-UV                        MS-2100-NIR FTc.]l
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                       _A13[Mt3  
波長范圍:300nm～1000nm           波長范圍:200nm～400nm              波長范圍:800nm～1000nm GeszgtK{T  
產品性能： sg
'pO*_&  
產品型號：                   MS-2100                 MS-2100-UV               MS-2100-NIR ;V^pL((5J  
探測器規(guī)格：                                                                                 c;0Vs,DUmG  
探 測 器                        SONY 2048                   Hamamatsu (UV增強型)        Hamamatsu (NIR增強型) 8to8!(  
光學參數(shù)：                                                                                 zZcnijWb  
光譜范圍                      300nm～1000nm              200nm～400nm              800nm～1000nm tE6!+c<7  
分 辨 率                     ＜1 nm                       ＜1 nm                        ＜1 nm D8&`R  
信 噪 比                    200：1                       200：1                        200：1 g_5Q