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    [分享]光學(xué)元件拋光亞表面損傷實驗研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2014-06-13
    摘要：設(shè)計光學(xué)元件拋光亞表面損傷檢測實驗，使用原子力顯微鏡(AFM)檢測傳統(tǒng)拋光亞表面塑性劃痕與磁流變拋光亞表面塑性劃痕的最大深度，通過比較驗證磁流變拋光對亞表面塑性劃痕的抑制能力;同時利用二次離子質(zhì)譜儀的深度剖析功能檢測磁流變拋光石英樣件后表面水解層的深度，指出磁流變拋光屬于低損傷性拋光技術(shù)。 +W%3VV$  
    *QGyF`Go{  
    關(guān)鍵詞：磁流變拋光；傳統(tǒng)拋光；亞表面損傷
    附件: 光學(xué)元件拋光亞表面損傷實驗研究.rar (461 K) 下載次數(shù):27 ，售價:2光幣[記錄]
     
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2022-10-03
    學(xué)習(xí)學(xué)習(xí). NZL$#bRB