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    等離子體清洗設(shè)備在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用! [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-08-22
    等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
    aq>kTaz  
    L\6M^r >  
    wjU9ZGM  
    應(yīng)用領(lǐng)域: 7cuE7"  
    1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片 m<<+  
      • 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片 QGMV}y  
      • 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì) pQyK={7?`  
      • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石 bbDZ#DK"  
      • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板 fF!Yp iI"  
      • 清洗生物芯片、微流控芯片 sf:,qD=z  
      • 清洗沉積凝膠的基片 6iry6wcHm  
    -vAC"8)S  
    2、牙科領(lǐng)域:對硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強其浸潤性和相容性 aG-vtld  
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    3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和殺菌 z{%<<pZ