等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
aq>kTaz L\6M^r
> wjU9ZGM 應(yīng)用領(lǐng)域: 7cuE7" 1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片
m<<+ • 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片
QGMV}y • 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)
pQyK={7?` • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石
bbDZ#DK" • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板
fF!Yp iI" • 清洗生物芯片、微流控芯片
sf:,qD=z • 清洗沉積凝膠的基片
6iry6wcHm -vAC"8)S 2、牙科領(lǐng)域:對硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強其浸潤性和相容性
aG-vtld 3<e=g)F 3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和殺菌
z{%<<pZ