等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
mc4i@<_? 6Cp]NbNrq 8_N]e'WUh 應(yīng)用領(lǐng)域: H/}]FmjN 1、清洗光學器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片
Nz)l<S9> • 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片
z;y:9l • 移除光學元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)
}NB}"%2 • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石
<F04GO\ • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板
l#n,Fg3 • 清洗生物芯片、微流控芯片
n0is\ZK 0 • 清洗沉積凝膠的基片
X]y)qV)a[c bJD;>"* 2、牙科領(lǐng)域:對硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強其浸潤性和相容性
8g7<KKw m4*@o?Ow 3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學上移植物的表面預(yù)處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和殺菌
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*z7dl5xJ 4、改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力
jmeRrnC} RD.V'`n" 5、去除金屬材料表面的氧化物
c/uNM 2PG [7u^ 6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化,增強其表面粘附性、浸潤性、相容性
4f<$4d^md jRatm.N 7、高分子材料表面修飾
%.vVEy 4ni3kmvX p'om- 一、金屬表面去油及清潔
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