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    等離子體清洗設(shè)備在光學領(lǐng)域的應(yīng)用! [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-08-22
    等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
    mc4i@<_?  
    6Cp]NbNrq  
    8_N]e'WUh  
    應(yīng)用領(lǐng)域: H/}]FmjN  
    1、清洗光學器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片 Nz)l<S9>  
      • 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片 z;y:9l  
      • 移除光學元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì) }NB}"%2  
      • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石 <F04GO\  
      • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板 l#n,Fg3  
      • 清洗生物芯片、微流控芯片 n0is\ZK 0  
      • 清洗沉積凝膠的基片 X]y)qV)a[c  
    bJD;>"*  
    2、牙科領(lǐng)域:對硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強其浸潤性和相容性 8g7<KKw  
    m4*@o?Ow  
    3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學上移植物的表面預(yù)處理,增強其浸潤性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和殺菌 8U_{|]M  
    *z7dl5xJ  
    4、改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力 jmeRrnC}  
    RD.V'`n"  
    5、去除金屬材料表面的氧化物 c/ uNM  
    2PG [7u^  
    6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化,增強其表面粘附性、浸潤性、相容性 4f<$4d^md  
    jRatm.N  
    7、高分子材料表面修飾 %.vVEy  
    4ni3kmvX  
    p'om-  
    一、金屬表面去油及清潔 aFLO{t