已知基板為硅片折射率為3.85,從基板到外界空氣依次為:5nm厚的二氧化硅層、2層不同折射率和厚度的氮化硅薄膜、空氣,第一層氮化硅,其厚度為d1(具體數(shù)值待定),折射率為n3(折射率在2.0-2.5之間可調(diào),可取其任意值,具體數(shù)值待定),第二層氮化硅,其厚度為d2(具體數(shù)值待定),折射率為n4(折射率在2.0-2.5之間可調(diào),可取其任意值,具體數(shù)值待定),且d1+d2=75nm,要求在300-1100nm的整個(gè)太陽(yáng)光譜反射率最低,請(qǐng)問(wèn):n3、n4、d1和d2值是多少才能達(dá)到最佳?謝謝! vhE^jS<Tg