郭培基，余景池，丁澤釗，孫俠菲（蘇州大學(xué) 現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)研究所，江蘇 蘇州 215006）摘自《光學(xué)技術(shù)》
#mu L-V 摘要：高質(zhì)量的透射光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)材料的光學(xué)均勻性要求非常高，材料局部折射率10-6量級的變化就可能破壞整個系統(tǒng)的性能。詳細(xì)介紹了三種用于測量光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的干涉法，研制了一臺高精度光學(xué)玻璃材料光學(xué)均勻性測量儀。實驗結(jié)果表明：40mm左右厚的光學(xué)玻璃材料的光學(xué)均勻性檢測精度可達(dá)1×10-6。
]q%r2 (y,k 關(guān)鍵詞：環(huán)行浮動拋光技術(shù)；工藝實驗；透射波前；反射波前
{s0%XG1$ 中圖分類號：TH706
|cma7q}p 文獻(xiàn)標(biāo)識:A zW%Em81Wd
