探索滿足“深紫外透過-大倍頻效應-較大雙折射”相互矛盾性能指標的深紫外（< 200 nm）非線性光學晶體是當前該領域亟待突破的關鍵難點。通過材料結(jié)構(gòu)性能關系研究，建立功能基元數(shù)據(jù)庫，探索平衡制約性能微觀機理，篩選并引入新的功能基團來平衡矛盾綜合品質(zhì)因子是突破深紫外用晶體的有效手段。 2C