近日，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)研制成功波長(zhǎng)254nm的實(shí)用深紫外光刻機(jī)（Mask aligner），光刻分辨力達(dá)到500nm。 r}Av"  
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