近日，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所微電子專(zhuān)用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)研制成功波長(zhǎng)254nm的實(shí)用深紫外光刻機(jī)（Mask aligner），光刻分辨力達(dá)到500nm。 uE]
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　　Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最廣、使用數(shù)量最多的一種光刻設(shè)備。在現(xiàn)有的微納加工工藝中，光刻所采用的波段是決定光刻分辨力的重要因素之一。長(zhǎng)期以來(lái)，國(guó)產(chǎn)Mask aligner均采用紫外波段（350nm至450nm），分辨力只能做到1μm以上。而對(duì)于200nm至1μm的微納器件復(fù)制，只能采用進(jìn)口紫外投影光刻機(jī)，200nm以下分辨力則只能采用進(jìn)口深紫外投影光刻機(jī)。光電所該型設(shè)備的成功研制，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)商用化深紫外光刻機(jī)的空白，可低成本解決500nm以上器件的高效復(fù)制，具有很好的社會(huì)經(jīng)濟(jì)效益。 \