一臺(tái)新的鍍膜機(jī)，在不知道折射率，沒有補(bǔ)正板，不知道均勻性等的情況下，應(yīng)該如何進(jìn)行調(diào)試啊？步驟我知道，但是就是不知道具體該如何做，比如先做材料折射率，拿五氧化三鈦為例，在沒有具體的折射率情況下，用多大的折射率去做單層，單層的厚度設(shè)計(jì)多少，做出來后怎樣進(jìn)行修正計(jì)算實(shí)際的折射率，具體的教程誰有啊？另外知道折射率了，在做均勻性時(shí)，修正板要如何修剪？ kf>'AbN
 
求指點(diǎn)。 QwOQS %  

補(bǔ)正板作成資料C.zip (384 K) 下载次数:343 補(bǔ)正板作成資料C.zip (384 K) 下载次数:343 s_`wLQ7e  
先看一下附件，新柯隆的補(bǔ)正板做成資料。
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寫的比較詳細(xì)了。

另外，要做單層時(shí)，先確認(rèn)一下你的分光儀測(cè)量范圍和手頭的光學(xué)軟件是否可以用，里面有多少材料庫，不夠的話去查一下自己做材料。（推薦麥克勞德，當(dāng)然TFC也可以） h3@mN\=h'  
一般單層厚度在測(cè)量范圍內(nèi)3～5個(gè)PEAK（用光學(xué)軟件模擬一下就可以知道）。 ?0'bf y]  
SiO2一般折射率變化不會(huì)太大，所以直接用光學(xué)軟件的折射率也可以。  J|6aa  
（還有就是有些分光儀分辨率不高，做出來的SiO2曲線毛刺很多，反倒不如軟件里的折射率準(zhǔn)確） ml?+JbLg0  
做的話多用幾個(gè)坩堝，一個(gè)坩堝做很厚的膜層不好（打坑深了分布變了修正板就不準(zhǔn)了）

1.設(shè)定初參數(shù)：溫度、真空、充氧、離子源、速率，這個(gè)可以參考或詢問； d8]6<\g  
m"U\;Mw?  
2.鍍單層膜  基板選擇圓平片，一班鍍3-5個(gè)極值； >b{%j8uM  
C=PBF\RkKu  
3.修均勻性和計(jì)算折射率同步進(jìn)行；高低材料均勻性交替修 i"w$D{N  
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