NiC/Ti中子超鏡是一種高性能的中子多層膜光學(xué)元件，NiC納米薄膜的制作是實(shí)現(xiàn)NiC/Ti多層膜的關(guān)鍵技術(shù)。基于Ni和C的直流磁控濺射方法，提出了一種NiC聯(lián)合濺射靶材的實(shí)現(xiàn)方法，并制作了NiC單層膜樣品。X射線光電子能譜的測量結(jié)果表明：用聯(lián)合濺射靶材制作的NiC薄膜中Ni和C的原子數(shù)比與理論預(yù)期相吻合；基于X射線光電子能譜測試得到的Ni、C原子數(shù)比，通過構(gòu)建Ni86C14的模型，可以很好地對掠入射X射線反射測試結(jié)果進(jìn)行理論擬合。該研究可為進(jìn)一步開展NiC/Ti中子超鏡的制作提供參考。