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解開納米級3D打印的秘密 勞倫斯利物莫國家實驗室（LLNL）的研究人員發(fā)現(xiàn)延長雙光子光刻技術(shù)（TPL）能力的新途徑，一個高分辨率的三維打印技術(shù)能夠生產(chǎn)納米尺寸的結(jié)構(gòu)，其寬度小于人類頭發(fā)寬度的一百分之一。 這一研究結(jié)果，最近發(fā)表在雜志《ACS Applied Materials & Interfaces》上，同時具有X射線計算機斷層掃描（CT）潛力分析的應(yīng)力，或者用于實現(xiàn)缺陷的無創(chuàng)性醫(yī)療器械和植入物嵌入的3-D印刷制作。  雙光子光刻通常需要一個薄的玻璃片、一個透鏡，并且需要油浸來幫助激光聚焦到固化和打印的細微點上。它不同于其他3D打印方法的分辨率，因為它能產(chǎn)生特征小于激光光斑，規(guī)模沒有其他印刷工藝可以匹配。該技術(shù)繞過了其他方法通常的衍射極限，因為固化和硬化產(chǎn)生的光致抗蝕劑材料以前是商業(yè)秘密，其中材料同時吸收兩個光子而不是一個。 在論文中，勞倫斯利物莫國家實驗室的研究人員描述了光刻膠材料的雙光子光刻技術(shù)和三維微結(jié)構(gòu)與功能小于150納米的形成優(yōu)化破解密碼。以前的技術(shù)從基板建造了結(jié)構(gòu)，限制了物體的高度，因為玻璃幻燈片和鏡頭之間的距離通常是200微米或更小。通過轉(zhuǎn)動頭部的過程，將抗蝕材料直接放在鏡頭上，通過抗蝕劑聚焦激光，研究人員現(xiàn)在可以打印出幾毫米高的物體了。此外，研究人員能夠調(diào)整和提高X射線光抗可以吸收量，超過10倍的常用技術(shù)的光致抗蝕劑提高衰減。  上圖所示為勞倫斯利物莫國家實驗室研究印刷的八桁架結(jié)構(gòu)頂部的一個類似于人類頭發(fā)直徑的固體堿的亞微米級的功能結(jié)構(gòu)。來源： 勞倫斯利物莫國家實驗室 “在這篇文章中，我們已經(jīng)解開了秘密制造定制材料雙光子光刻系統(tǒng)，而不損失分辨率，”勞倫斯利物莫國家實驗室研究員James Oakdale說，他是該論文的共同作者。 由于激光光線折射通過光刻膠材料，這是要解決的關(guān)鍵難題，研究人員說，“折射率匹配”發(fā)現(xiàn)如何匹配的抗蝕材料的透鏡浸沒介質(zhì)的折射率，激光可以暢通通過。索引匹配打開了打印較大的部件的可能性，他們說，具有100納米的特性。 “大多數(shù)研究人員想要使用雙光子光刻印刷功能的三維結(jié)構(gòu)要比100微米的部分更高，”Sourabh Saha說，特也是論文的主要作者�！笆褂眠@些索引匹配的抗蝕劑，您可以像您希望的那樣打印結(jié)構(gòu)。唯一的限制是速度。這是一種折衷，但現(xiàn)在我們知道如何做到這一點，我們可以診斷和改進這個過程。”  通過雙光子光刻（TPL）3D打印過程中，研究人員可以打印木質(zhì)晶格結(jié)構(gòu)特，其寬度約為人類頭發(fā)寬度的一部分。 通過調(diào)整材料的X射線吸收，研究人員現(xiàn)在可以使用X射線計算機斷層掃描對圖像部分的內(nèi)部在不切割開的情況下進行調(diào)查，或利用3-D打印技術(shù)嵌入體診斷工具，如支架、關(guān)節(jié)或骨支架。這些技術(shù)也可用來生產(chǎn)特殊需求的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的探針，以及光學(xué)和機械材料，3-D印刷電化學(xué)電池等。 唯一的限制因素是需要創(chuàng)建時間，所以研究者下一步會研究并行化和加速過程。他們打算移動到更小的功能，并在將來添加更多的功能，使用該技術(shù)構(gòu)建真正的關(guān)鍵任務(wù)部件。 “我們目前解決的問題只是一個非常小的一塊，但我們更相信我們的能力，開始在這一領(lǐng)域逐步開展研究，”Saha說�！拔覀冋咴谝粭l我們知道我們有不同類型應(yīng)用程序的潛在解決方案的道路上。我們在越來越大的結(jié)構(gòu)中尋求越來越小的功能，使我們更接近世界其他地方正在進行的科學(xué)研究的前沿。在應(yīng)用方面，我們正在開發(fā)新的實用的打印方法。
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