摩爾定律 lO! Yl:;m%  
　 Intel公司的主席戈登·摩爾在1965年指出：芯片中的晶體管和電阻器的數(shù)量每年可以翻一番。 w5w
,jD[  
　1975年，摩爾修正了摩爾定律，他認(rèn)為：每隔18個(gè)月，芯片中晶體管的數(shù)量可以翻一番。 V}o`9R@tx}  
集成度：1000萬~10億 '/%]B@!  
線寬：2~0.045µm +Kw:z?  
40多年的實(shí)踐證明，預(yù)測準(zhǔn)確。 :rd{y`59>&  
集成電路生產(chǎn)工藝的提高（2/1/0.8/0.6/0.5/0.35/0.25/0.18/0.13um/ 90/65/45/32nm)，縮小了單管的尺寸，提高了芯片的集成度與工作頻率，降低了工作電壓。 >M=_:52.+  
今后可再用10年？ <fg~+{PA&  
Intel的目標(biāo)是在2022年使用4納米的工藝。但只有22納米的目標(biāo)是比較可行的，以后的目標(biāo)有待技術(shù)突破。 7ESSx"^B