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掃描電鏡SEM發(fā)展史 \<
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1873 Abbe 和Helmholfz 分別提出解像力與照射光的波長成反比。奠定了顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 8wFn}lw&  
1897 J.J. Thmson 發(fā)現(xiàn)電子 4rp6 C/i  
1924 Louis de Broglie (1929 年諾貝爾物理獎得主） 提出電子本身具有波動的物理特性， 進一步提供電子顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 tOg=zXm  
1926 Busch 發(fā)現(xiàn)電子可像光線經(jīng)過玻璃透鏡偏折，一般由電磁場的改變而偏折。 ==9ZFdf  
1931 德國物理學(xué)家Knoll 及Ruska 首先發(fā)展出穿透式電子顯微鏡原型機。 +R\~3uj[7  
1937 首部商業(yè)原型機制造成功（Metropolitan Vickers 牌）。 GU6qIz|  
1938 第一部掃描電子顯微鏡由Von Ardenne 發(fā)展成功。 E(Gr0#8  
1938～39 穿透式電子顯微鏡正式上市（西門子公司，50KV~100KV，解像力20~30Å；）。 5~}!@yzc  
1940～41 RCA 公司推出美國第一部穿透式電子顯微鏡（解像力50 nm）。 )I9aC~eAD  
1941～63 解像力提升至2~3 Å （穿透式） 及100Å （掃描式） 0m=(W^c  
1960 Everhart and Thornley 發(fā)明二次電子偵測器。 80&D""  
1965 第一部商用SEM出現(xiàn)（Cambridge) ,wK 1=7  
1966 JEOL 發(fā)表第一部商用SEM(JSM-1) J/kH%_ >Ir  
1958年 中國科學(xué)院組織研制 p_6P`Yx^e  
1959年第一臺100KV電子顯微鏡 1975年第一臺掃描電子顯微鏡DX3 在中國科學(xué)院科學(xué)儀器廠（現(xiàn)北京中科科儀技術(shù)發(fā)展有限責(zé)任公司）研發(fā)成功 fusPMf *[  
1980年中科科儀引進美國技術(shù)，開發(fā)KYKY1000掃描電鏡 c@OP5L>{  
芯片失效分析實驗室介紹，能夠依據(jù)國際、國內(nèi)和行業(yè)標準實施檢測工作，開展從底層芯片到實際產(chǎn)品，從物理到邏輯全面的檢測工作，提供芯片預(yù)處理、側(cè)信道攻擊、光攻擊、侵入式攻擊、環(huán)境、電壓毛刺攻擊、電磁注入、放射線注入、物理安全、邏輯安全、功能、兼容性和多點激光注入等安全檢測服務(wù)，同時可開展模擬重現(xiàn)智能產(chǎn)品失效的現(xiàn)象，找出失效原因的失效分析檢測服務(wù)，主要包括點針工作站（Probe Station）、反應(yīng)離子刻蝕（RIE）、微漏電偵測系統(tǒng)（EMMI）、X-Ray檢測，缺陷切割觀察系統(tǒng)（FIB系統(tǒng)）等檢測試驗。實現(xiàn)對智能產(chǎn)品質(zhì)量的評估及分析，為智能裝備產(chǎn)品的芯片、嵌入式軟件以及應(yīng)用提供質(zhì)量保證。 {D(,ft;s^  
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國家應(yīng)用軟件產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心 _*`q(dYcf  
北京軟件產(chǎn)品質(zhì)量檢測檢驗中心 ScJu_Af  
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