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掃描電鏡SEM發(fā)展史 oazy%n(KZ  
1873 Abbe 和Helmholfz 分別提出解像力與照射光的波長(zhǎng)成反比。奠定了顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 4#D>]AX  
1897 J.J. Thmson 發(fā)現(xiàn)電子 hx!hI1
  
1924 Louis de Broglie (1929 年諾貝爾物理獎(jiǎng)得主） 提出電子本身具有波動(dòng)的物理特性， 進(jìn)一步提供電子顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 xU;Q~(  
1926 Busch 發(fā)現(xiàn)電子可像光線經(jīng)過(guò)玻璃透鏡偏折，一般由電磁場(chǎng)的改變而偏折。 $G#)D^-5G  
1931 德國(guó)物理學(xué)家Knoll 及Ruska 首先發(fā)展出穿透式電子顯微鏡原型機(jī)。 'dd[=vzK  
1937 首部商業(yè)原型機(jī)制造成功（Metropolitan Vickers 牌）。 a_Z[@W  
1938 第一部掃描電子顯微鏡由Von Ardenne 發(fā)展成功。 NU%W
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1938～39 穿透式電子顯微鏡正式上市（西門(mén)子公司，50KV~100KV，解像力20~30Å；）。 e8hwXz  
1940～41 RCA 公司推出美國(guó)第一部穿透式電子顯微鏡（解像力50 nm）。 6;}W)S  
1941～63 解像力提升至2~3 Å （穿透式） 及100Å （掃描式） aq]bF%7  
1960 Everhart and Thornley 發(fā)明二次電子偵測(cè)器。 wGx*Xy1n<  
1965 第一部商用SEM出現(xiàn)（Cambridge) X8  
1966 JEOL 發(fā)表第一部商用SEM(JSM-1) 9:CM#N~?o  
1958年 中國(guó)科學(xué)院組織研制 oedLe9!  
1959年第一臺(tái)100KV電子顯微鏡 1975年第一臺(tái)掃描電子顯微鏡DX3 在中國(guó)科學(xué)院科學(xué)儀器廠（現(xiàn)北京中科科儀技術(shù)發(fā)展有限責(zé)任公司）研發(fā)成功 \aGTi pB  
1980年中科科儀引進(jìn)美國(guó)技術(shù)，開(kāi)發(fā)KYKY1000掃描電鏡 HAGpM\Qa  
芯片失效分析實(shí)驗(yàn)室介紹，能夠依據(jù)國(guó)際、國(guó)內(nèi)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施檢測(cè)工作，開(kāi)展從底層芯片到實(shí)際產(chǎn)品，從物理到邏輯全面的檢測(cè)工作，提供芯片預(yù)處理、側(cè)信道攻擊、光攻擊、侵入式攻擊、環(huán)境、電壓毛刺攻擊、電磁注入、放射線注入、物理安全、邏輯安全、功能、兼容性和多點(diǎn)激光注入等安全檢測(cè)服務(wù)，同時(shí)可開(kāi)展模擬重現(xiàn)智能產(chǎn)品失效的現(xiàn)象，找出失效原因的失效分析檢測(cè)服務(wù)，主要包括點(diǎn)針工作站（Probe Station）、反應(yīng)離子刻蝕（RIE）、微漏電偵測(cè)系統(tǒng)（EMMI）、X-Ray檢測(cè)，缺陷切割觀察系統(tǒng)（FIB系統(tǒng)）等檢測(cè)試驗(yàn)。實(shí)現(xiàn)對(duì)智能產(chǎn)品質(zhì)量的評(píng)估及分析，為智能裝備產(chǎn)品的芯片、嵌入式軟件以及應(yīng)用提供質(zhì)量保證。 tQ(gB_
 
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國(guó)家應(yīng)用軟件產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心 ^r^) &]  
北京軟件產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)檢驗(yàn)中心 V?-OI>  
智能產(chǎn)品檢測(cè)部 {GQRJ8m  
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