FinFET晶體管發(fā)明人胡正明獲IEEE榮譽獎章
日前IEEE電子電器工程師協會宣布,FinFET晶體管發(fā)明人胡正明(Chenming Hu)獲得了2020年的IEEE 榮譽獎章,這是IEEE協會的最高獎勵,這一技術使得摩爾定律延壽了數十年。自從1965年,Intel聯合創(chuàng)始人戈登·摩爾提出“摩爾定律”以來,半導體工藝一直按照這個規(guī)律發(fā)展,2年提升一倍的晶體管密度。
不過摩爾定律原本應該終結了,因為按照之類的發(fā)展,傳統(tǒng)硅基半導體工藝制造難度越來越大,特別是在28nm工藝之后。 胡正明教授在這個問題上貢獻很大,他于1999年發(fā)明了FinFET晶體管,也叫鰭式晶體管或者3D晶體管,就是因為晶體管的形狀與魚鰭的相似性。 FinFET晶體管的設計可以改善電路控制并減少漏電流,縮短晶體管的閘長,FinFET閘長已可小于25nm,未來預期可以進一步縮小至9nm,約是人類頭發(fā)寬度的1萬分之1。 Intel在2012年正式量產了3D晶體管技術,首發(fā)的是22nm工藝,當時臺積電、三星還停留在28nm工藝上,之后在16/14nm節(jié)點上他們才進入了FinFET晶體管時代。 從這一點上來說,胡正明教授發(fā)明的FinFET技術不僅拯救了摩爾定律,Intel、AMD、NVIDIA、蘋果、華為、高通、三星等半導體行業(yè)的公司都受益于胡正明教授的發(fā)明。 關鍵詞: 晶體管
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