本公司美國(guó)光刻圖形發(fā)生器利用光刻正膠或負(fù)膠，在感光板上制作用于加工集成電路的高精度、高品質(zhì)掩膜版，也可根據(jù)需求制作優(yōu)質(zhì)的光學(xué)碼盤(pán)、碼尺、分劃板、標(biāo)尺、光柵、鍍盤(pán)、鑒別率板等精密光學(xué)零件的母板和任意圖形。 rIFW1`N}i  
光刻機(jī)性能參數(shù)： K:'^f? P  
      可加工最小線寬：    直接光刻 2.5 微米；重復(fù)步進(jìn)  1 微米 *:xOenI  
      最大加工范圍：      152毫米 ×  220毫米 Vu.=,G  
      定位精度：            0.38微米 oMg-.!6  
      最小可控制增量：    0.1微米 */IiL%g4u  
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qjs69@126.com  13057610151-錢(qián)先生